5月23日动静，据报导，近日日本光刻胶巨擘JSR的首席执行官埃里克约翰逊（Eric Johnson）在接受采访时暗示，虽然中国在尽力推进芯片的自给自足，但中国半导体工业需要的根本举措措施不足，好比很难掌握基于极紫外（EUV）光刻的繁杂芯片创造技能，成长进步前辈制程的芯片创造技能将很是坚苦。

约翰逊指出，我认为中国也很是想成长本身的EUV（极紫外光刻）能力以及相干的生态体系（好比EUV光刻胶）。但坦率地说，我认为他们要做到这一点很是坚苦。

现实上，荷兰光刻机巨擘阿斯麦（ASML）CEO温彼患上也在本年1月表达过以及约翰逊雷同的概念，认为中国不太可能复制召盘尖的EUV光刻机。但他那时弥补称，永遥别那末尽对于，中国的物理定律以及全地球的人是同样的，他们确定会测验考试。

另外，对于于中国在光刻胶领域的追逐，和但愿在高端光刻胶技能上的突破，约翰逊认为，即使中国得到相干化学成份简直切资料，但在纯度、精度及创造上都很是坚苦，且中国也没有供给链支撑。但中国当前踊跃投资成熟的芯片技能，也是不容轻忽的一部门，人们还没充实意想到，中国有几多机遇可以不依赖这些进步前辈制程。

资料显示，JSR公司成立于1957年，中文名为日本合成橡胶，是全球主要的光刻胶供给商之一。在运用方面，光刻胶是半导体、液晶面板（LCD）、印刷电路板（PCB） 等工业的首要原质料。

在半导体领域，今朝光刻机暴光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包含 248nm 以及 193nm）以及极紫外（EUV），相对于应于各暴光波长的光刻胶也应运而生，对于应分别为，G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

今朝，在全球半导体光刻胶领域，主要被日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、美国杜邦、日本信越化学、富士电子、罗门哈斯等头部厂商所垄断，此中JSR盘踞了28%的市场。

而在高端半导体光刻胶市场上，JSR在ArF光刻胶领域以24%的市场份额位居全球。在EUV光刻胶方面，TOK以及JSR有较高的份额。

从海内的光刻胶市场来望，低真个中g线/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率不足5%，而高真个ArF光刻胶彻底依赖入口，是海内半导体的卡脖子技能之一。

至于EUV光刻胶，因为美国的阻挠，年夜陆今朝没法入口EUV光刻机，是以国产EUV光刻胶的开发天然也无从谈起。