提起荷兰，大多数人反应是郁金香的国度。郁金香纯洁，优雅，美丽，被视为胜利和美丽的象征。
一片片在田野里盛开的郁金香，在《星空》吹拂下，这鲜花如精灵一般摇曳着，飘舞着，芬芳的弥漫在《普罗旺斯的农场》上方。
破土而出的力量，在大自然关爱中尽情的成长，扩撒到天地之中，凝成春雨，再滴落《戴珍珠耳环的少女的》发梢。
美丽的农场，盛开的郁金香下，荷兰诞生了一代代才华横溢的艺术家，梵高，维米尔，伦勃朗，勃鲁盖尔，凡.艾克……
荷兰人天性自由，热情奔放，富有冒险精神，在17世纪开创大航海时代而被誉为“海上马车夫”。乐于冒险的荷兰人，总会给世界带来些许不同，甚至还推动历史车轮前进。
首台EXE 5000即将交付比利时的IMEC，而首台EXE 5200系列预计将在2024年后交付英特尔。也许3年后，我们将用上3nm制程的芯片，而ASML继续为这目标而奋斗。
终章 最后的反思有人赞叹诞生于飞利浦的ASML是天之骄子，但是纵观整个ASML 38年的发展史，很难说它的发展过程是一帆风顺的。
创业前十年，亏损有九年，前期一台设备都卖不出去，但是ASML并没有放弃，而是紧紧抓住仅有的机会，一步步走上舞台中央。
不管对手多么先进的设备，ASML人不会因为对手做得好而心服口服，他们基本秉承一个态度：你好方面我要做的更好，你不好的方面，我更要想办法取代你，不断寻找对手设备缺陷并加以改正的过程，从而不断的自我突破。
合作，开放，创新，进取才是ASML能成为现在光刻设备霸主的内在精神。每一代ASML的研发人员，个个都具有科技偏执狂特质，每个人都追求精益求精，尽善尽美的科技信仰。
很多人一直在思考：为什么ASML能做出这样先进的光刻机，中国的公司还做不到？
从产业实际角度出发，光刻机乃是人类科技之集大成，是汇聚全球所有公司，科学家和众多工程师们共同努力的结果，要求中国把所有技术完全自主开发，这无疑痴人说梦。
研发光刻机需要众多前期技术做积累和铺垫，显然在这块基础科学上，中国还有很多旧账需要填，因此研发光刻机是一个厚积薄发的漫长过程，不轻言超越，更别提什么换道超车。
对于中国而言，核心技术当然要掌握，开放创新融入全球产业链，提出更好的技术和做出更好的产品才是正确的出路，而不是一味的封闭思想，搞技术对抗。
尽管目前由于半导体产业链的基础信任被某一些的政客，以各种理由切割，但是别人越是封闭，我们越是开放才显出一个自信的科技强国。
ASML作众多半导体设备商中，其实算最有情义的公司了。除了EUV，其他光刻机都能买到，包括前年顶配的NXT 2050i，中国大陆地区的就是批交付的。EUV光刻机由于光源卡在美国上手一直不给许可证才没法交付，并不是ASML或者荷兰政府故意硬卡。
全球政经环境风云突变，有挑战也有机会。我们不仅需要加大底层技术研发力度，更要还要吸取对方长处，不仅是技术，还包括管理，文化，市场运营，团体配合，产业链搭建等等，只有这样我们前进的动力才更足更稳。
ASML之所以能成为现在的样子，是在成立之处就计划好的，美国有个同行曾经说出这样一句话：“不管未来发生什么，ASML都会令世界瞩目”。
全文完。
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笔者有话说：
15年前，大约是在2007年笔者在当年的《微型计算机》的一期文章中，读到了英特尔新版酷睿CPU开始导入ASML浸没式光刻机，于是ASML这个名字和浸没式光刻机就深深的印在我脑子里。没想到多年后，我会从事芯片行业的相关创投工作，这几年亲眼目睹中国半导体产业的迅猛发展。各种闲暇之余会写下各种长文，或分析新技术，或剖析公司，或预测行业发展，或以史为镜从国内外公司兴衰过程反思国内行业发展的得失。
在去年读完《光刻巨人——ASML的崛起之路》后，就有补完ASML后半段历史的冲动，今年受某平台的老师约稿，花费近4个月时间创作这篇4万余字科普长文，希望让更多人了解ASML，了解光刻机，了解半导体，普及科学，提高国人科学素养。
随着“中兴事件”，“华为事件”，美国无理打压中国开始。无数自媒体粉墨登场，各种吓尿体，震惊体的文章层出不穷，全篇胡说八道，但是偏偏还有不少人信以为真，反而说真话还被围攻，动不动就扣“卖国党”，“恨国党”帽子，实在是令人痛心。
笔者以余生为誓，求真求实，与妖魔邪论战斗到底！
by——猛练自然强
参考资料：
光刻巨人——ASML崛起之路；
光刻机之战；
光刻机之战（续）；
光刻机之战3；
光刻机市场的战争；
光刻机小讲堂：解密光刻机内的微影大神；
产业观察丨日本1970年代产业转型研究（五）：扶持新兴产业；
芯史——光刻机编年史；
从德国蔡司和光刻机的故事聊聊大历史的变迁；
从“小破厂”到全球一哥,光刻机巨头ASML的周期逆袭史；
芯史，光刻机编年史；
光刻机战争1980：日本双雄的崛起；
光刻机详解：镜头及成像系统；
光刻机战争上：芯片时代的开启；
光刻机三巨头的殊途同归；
光刻机巨头ASML的十年变迁史
浅谈高数值孔径EUV系统的好处；
浅谈下一代EUV光刻机，NA系统的变化；
林本坚亲笔讲述：浸没式光刻机研发的台前幕后；
Intel 4 工艺预览；
1nm 以下先进制程工艺发展路线浮出水面；
浅谈下一代EUV光刻机；
泽尼克像差的形式；
ASML官网资料；
蔡司官网资料；
尼康官网资料；
以及笔者与当年ASML研发工程师的大量面对面访谈
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